제품소개

자동화장비Automation Equipment Section

Wafer Inspection System

No Task Example Capa Solution Method
1 Gold bump size (CD) X, Y 2D dimension 100% 2D Camera algorism program development 2D Camera Inspection
2 Back Side Marking 100% 2D Camera algorism program development 2D Camera Inspection
3 Solder bump Pattern/Ball Inspection 100% 2D Camera algorism program development 2D Camera Inspection
4 Sensor Chip Both Sides Inspection 100% 2D Camera algorism program development(both sides) 2D Camera Inspection
5 EBR 100% 2D, CCD of alignment camera 2D Camera Inspection

2D code marking & strip mapping system

Strip Mapping Vision

1) Marking 검사

  • Strip내 marking 유/무를 판단하여, Unit의 불량 여부를 확인.
  • Marking 여부는 Pixel GV를 통해 검출하며, 해당 기능을 통해 Marking이외에도 Unit의 이상 여부를 검출할 수 있습니다.

2) Strip mapping

  • 검사 후, 해당 Map data는 User의 선택에 따라 지정 할 수 있습니다.
  • Server = OK / Local = NG 일 때, 출력 번호 지정 가능
  • Server = NG / Local = NG 일 때, 출력 번호 지정 가능
  • 불량 유형의 따른 출력 번호 지정 가능.

  • Vision은 한 Lot의 Strip 정보를 모두 갖고 있으며, 필요 할 경우 해당 strip data를 불러와 재 확인이 가능하고, 수정하여 재 업로드 할 수 있습니다.

  • Red, Green, Blue, White ring으로 구성된 조명을 통해, 다양한 자재 검사를 원활하게 할 수 있습니다.
  • Window 당 multi shot 검사를 통해 흑/백 marking검사, matching검사 등 보다 편하게 조건을 잡을 수 있습니다.

3) Matching 검사 기능

Score 관리를 통한 Chip의 이상 유무를 확인할 수 있습니다.

등록한 Pattern
[ score = 100 ]

Chip이 없을 경우
[ score = 20 ]

Wire 불량
[ score = 49 ]

  • Pattern 등록을 통해, 해당 Unit 내에 Chip의 유/무, Die의 유/무, Wire 유/무 등의 비교 가능.
  • 10가지 유형의 pattern 등록이 가능하며, 개별 score를 관리 함.

4) Alignment

  • Strip loading 후, 2D Code marking을 위한 X, Y 축에 대한 보정 기능 구현됨.

5) Orientation

  • Gold bar, 특정 pattern 유무 확인을 통한 자재 방향 검사 기능 구현 됨.

6) 2D code

  • Blue, Red 조명 선택하여 검사 할 수 있도록 구현.
  • 다양한 2D code 대응 가능.

Laser Etching System

Process Flow

No Process Function
1 Loading Manual
Index Robot
2 Align Optional
3 Laser Process Unit Laser Etching (Green or IR Laser)
Dust Suction (Blower)
4 Clen Process Sticky Roller
Blower and Suction
Brush
5 Unloading Manual
Index Robot

Specifications

Application Surface Etching
Substrate input sheet size 80mm x 80mm
Thickness 5 ~ 10mm
Cell size 25mm x 25mm ~ 300mm x 300mm
Clean class Idle : Class 1000
Run:Class 10000
Laser Green Laser or IR Laser
Etching accuracy Accuracy of Green Laser: ≤±100µm
Etching speed Green laser Etching : Max 500mm/s

System components

LASER & OPTICS UNIT
  1. Green laser
  2. Scanner unit
  3. Delivery optics
  4. Power sensor
MECHANICAL UNIT
  1. Conveyor Unit
  2. Clen Unit
  3. Substrate Transfer Unit
PERIPHERAL EQUIQMENT
  1. Laser Controller
  2. Dust collector
OPTIONAL
  1. UPS (for PC)

Wafer ID Laser Marking System

Wafer ID Laser Marking M/C

Wafer ID Marking M/C는 Wafer의 Top side에 wafer ID를 Marking하는 System 장비 입니다.
고속 가공이 가능하며, 사용자의 편의에 따른 프로그램 변경이 용이한 Wafer ID Marking 솔루션을 제공합니다.

Wafer scanning (mapping) 🠖 Wafer loading 🠖 D cut aligning 🠖 Laser marking 🠖 OCR & 2D barcode scanning 🠖 Wafer unloading

Item Specification
Wafer Size Min 6” – Max 8”
M/C Size 1800 * 1200 * 2000(H) (mm)
Cassette Path line 900 (SEMI Standard)
Number of port 2 Port
Accuracy ±0.1mm
Tact time < 30s
Utility Power AC220V, 단상 50/60Hz, 25A
Vacuum -400mmHg 이상
CDA 5kgf/cm^2, 45l/min
Option Carrier ID Reader(RFID)
Wafer mapping unit
FFU(ULPA Filter)
Ionizer장착 (SEMI Standard)
CIM
Technical Specification
Laser Type Green Laser (IR Laser optional)
Wavelength 532nm
Min Beam Diameter < 10um
Beam Quality M2 < 1.2
Pulse Frequency 10-200 kHz
Output Power 10 Watts
Repetition Accuracy 2um
Cooling System Water-cooled
Fθ Marking Field Size 50mm x 50mm
Laser Safety Level Class 1
Electrical Connection 220V (±10%), 50/60Hz, 20A
Power Consumed 5Kw
Warranty Coverage (Parts & Labor) 1-year
Laser Safety Compliance FDA(CDRH)
Running Temperature 15-35℃
Marking Letter 7-10 Text
Warranty 1year & 20,000h